價(jià)值3.83億美元 Intel拿下全球第二臺High NA EUV光刻機

8月6日消息，價(jià)值在近日的億美元財報電話(huà)會(huì )議上，Intel CEO宣布已成功接收全球第二臺價(jià)值3.83億美元的拿下High NA EUV（極紫外光刻機）。

High NA EUV光刻機是全球目前世界上最先進(jìn)的芯片制造設備之一，其分辨率達到8納米，第臺能夠顯著(zhù)提升芯片的刻機晶體管密度和性能，是價(jià)值實(shí)現2nm以下先進(jìn)制程大規模量產(chǎn)的必備武器。

帕特·基辛格表示，億美元第二臺High NA設備即將進(jìn)入Intel位于美國俄勒岡州的拿下晶圓廠(chǎng)，預計將支持公司新一代更強大的全球計算機芯片的生產(chǎn)。

此前，第臺Intel已于去年12月接收了全球首臺High NA EUV光刻機，刻機并在俄勒岡州晶圓廠(chǎng)完成了組裝。價(jià)值

此次第二臺設備的億美元引入，將進(jìn)一步提升Intel在高端芯片制造領(lǐng)域的拿下競爭力，有望幫助公司在2025年實(shí)現對臺積電等競爭對手的超越。

High NA EUV光刻機的引入，是Intel"IDM 2.0"戰略的一部分，該戰略旨在通過(guò)技術(shù)創(chuàng )新和工藝提升，重塑Intel在全球半導體產(chǎn)業(yè)的領(lǐng)導地位。

Intel計劃在2027年前將High NA EUV技術(shù)用于商業(yè)生產(chǎn)，并在2030年前實(shí)現代工業(yè)務(wù)的收支平衡。